화합물반도체 광융합 나노공정센터
- 용도 : 100/1000 class 화합물 반도체 공정
- 면적 : 400㎡
- 장비 : 44대
- 박막 : MBE, MOCVD, sputter, PECVD, ALD, evaporators
- 노광 : E-beam litho, hologram litho, photolitho / 식각:RIE, ICP-RIE
- 후속 : CMP, lapping polishing, dicing machine
- 분석 : EL, PL & Raman, SEM, surface profiler, ellipsometer
- 주요 연혁 :
- 1996 클린룸 준공
- 1997 한국연구재단 우수연구센터 지원 프로그램 선정, 초고속 광네트워크연구센터(UFON)
- 2019 후속공정실 증설 / GIST 중앙연구기기센터 설치
- 2020 KIAT 반도체 인프라 구축 지원사업(참여) 선정, 클린룸 관리실 증설
- 2021 NRF 대학 나노인프라 구축 지원사업(참여) 선정, 물성분석실 증설
- 2022 GIST 화합물반도체 광융합 나노공정센터(G-NICS)로 승격
- 2023 AI반도체 첨단 공정 팹 사업 지원
AI반도체 첨단공정 팹
2026년 완공 목표
- 용도 : 100/10000 class 6인치 팹 인프라
- 면적 : 5,520㎡(팹 전용 3,312㎡)
- 장비 : AI반도체 실현을 위한 Fan-out, Heterogeneous Integration 기술개발 및 차세대 반도체 후공정 분야의 인프라, 인력양성, 기업지원 및 연구개발
